㈜신코
MA8
5년
주장비
분석
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2007-06-28
486,657,450원
기관의뢰
고정형
건별
101,387원
. Substrate : Max. 200 mm × 200 mm . Mask size : 2.5, 3, 5, 7, 9 × 9 inch . Exposure Optic : Hg-Lamp 1000 W (I-, H-line) . Resolution : Soft/hard, contact : 1 ~ 2 ㎛, Vacuum contact : < 0.7 ㎛ .Alignment methods : Top side & Bottom side
○ PR coating된 Substrate에 패턴형성 - Wafer나 Glass Substrate를 정밀정렬하고, UV광원으로 노광하여 Mask상의 회로를 Wafer에 복사, 형성하는 장비 - 200 mm × 200 mm Size 대응 및 flexible 대응