글로셈
양극 알루미늄 산화 장치
5년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 퍼니스
2007-11-29
49,500,000원
고정형
건별
0원
양극산화를 통한 반도체 나노 구조 구현 을 위한 장비로 애노다이징을 통해 산화 알루미늄 박막에 나노패턴을 제조하는 장비이다. 일정한 조건에서 애노다이징을 하기위해 챔버의 온도 유속 전압 등을 정밀하게 조절한다.
Process Bath (AAO)
Operatiing Temperature: 2~50℃
Accuracy ±1℃
temp. control flowmeter filter pump
level sensor temp. sensor
양극과 음극간의 거리 조절 가능 (3~20cm)
기포 제거 기능 / Teflon heater
Chiller 1set
chemical pumping drain and bottle
Power source 제공
Process bath(Widening)
Operatiing Temperature: RT~70℃
Accuracy < ±1℃
Equipment: temp. control pump
Instrument: temp. sensor
Heater: Teflon heater
Drain: chemical pumping drain and bottle
Process bath (Etching)
Operatiing Temperature: RT~70℃
Accuracy < ±1℃
Equipment: temp. control pump
Instrument: temp. sensor
Heater: Teflon heater
Drain: chemical pumping drain and bottle