특징
기판폭 : MAX 650*550mm ~ MIN 150*150mm Mask : MAX 750mm*650mm 패턴 사이즈 : MAX 550*450mm ~ 100*100mm 마스크 타입 : Film 및 Glass Mask(4.8t) 장비 구성 : 노광 본체, 광원부, 조작 판넬 및 제어부 조도 (평행광) 5kw CCD 카메라는 X,Y 2축으로 이동

구성및성능
PDP 공정 과정중 노광

활용분야
PDP 공정중에서 ITO DFR 노광, 감광성 전극 페이스트 노광, 샌드 격벽 DFR 노광시 사용

글라스에 DFR 라미네이팅을 한후에 패턴 마스크를 놓고 노광하여 현상 에칭 박리 과정을 거치면
ITO 패턴 형성 할 수 있음.
감광성 전극 페이스트를 레이어로 인쇄한후 패턴 모양 마스크를 올려 놓고 노광을 하여 현상을 하면 전극패턴 형성.