마이다스시스템
MDA8000
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2007-06-15
71,500,000원
기관의뢰
고정형
시간별
59,000원
Photolighthography 공정에서 기판에 감광액을 도포한 이후 mask를 사용하여 UV을 조사하여 원하는 전극 pattern을 형성하는데 사용한다. 기판과 mask 사이의 정밀한 align이 가능하며 유리 및 플라스틱 기판에 적용할 수 있다.
- Light source system : 1kW Hg Lamp- Substrate size : Max 8”- Mask size : 7”× 7”- Chuck : 150 × 150 square