Time of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry의 부장비임. 보유하고 있는 sputtering gun은 Depth profile에 사용되는 Sputtering gun으로 사용할 수도 있고, mass spectrum을 얻을 때 사용하는 analysis gun으로도 사용가능한 장비임. sputtering ion gun의 소스는 C60 와 Cs 두가지 사용. C60 gun의 에너지는 10 KeV로 고정되어 있는 Cs gun은 500 eV, 1kEv, 3keV가 가능하다. Time of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry의 부장비임. 보유하고 있는 sputtering gun은 Depth profile에 사용되는 Sputtering gun으로 사용할 수도 있고, mass spectrum을 얻을 때 사용하는 analysis gun으로도 사용가능한 장비임. sputtering ion gun의 소스는 C60 와 Cs 두가지 사용. C60 gun의 에너지는 10 KeV로 고정되어 있는 Cs gun은 500 eV, 1kEv, 3keV가 가능하다.